X射线荧光痕量分析中的背景问题
-
摘要: X射线荧光分析中最基本的测量是X荧光辐射的强度。在元素分析线角度处测得的强度并不都是样品中该元素的贡献,除元素分析线的强度(净强度)之外的计数统称为背景。 在痕量分析中,背景在分析线强度中占有很大比例。尤其是在检出限附近,背景强度接近于分析线强度。这时背景的测量、校正和扣除等,就成为影响分析结果的重要因素。
-
-
计量
- 文章访问数: 1061
- PDF下载数: 1
- 施引文献: 0
下载: